Personen

Ausgezeichnete Abschlussarbeiten

Daniel Meth, Ein Interpolations-Algorithmus fur Walzlagerprofile (Hans-Wilhelm Renkhoff-Stiftung, 2017)

Monika Warmuth, Fourieranalysis in der Dialyse – Entwicklung eines Feedbacksystems zur Steuerung einer peristaltischen Pumpe (Hans-Wilhelm Renkhoff Stiftung, 2018)

Lotte Adler, Algorithmenbasierte Erhöhung des Flussgrades und Entwicklung eines flussorientierten Layout-Konzepts in einem Luftfrachtunternehmen am Beispiel der time:matters GmbH (Hans-Wilhelm Renkhoff Stiftung, 2019)

Nico Nees, Modellbildung fur Vereisungen an Windenergieanlagen auf Grundlage von meteorologischen Daten (Hans-Wilhelm Renkhoff Stiftung, 2019)

Andreas Handel, Maschinelles Lernen und Signalanalyse - Bewertung des Akustikverhaltens von Wälzlagern (Schaeffler FAG Stiftung, 2019)

111. Geburtstag von Willi Rinow (28. Februar 2018)

math-inf.uni-greifswald.de/fileadmin/uni-greifswald/fakultaet/mnf/mathinf/boldt/pdf-dateien/rinow-3.pdf

Recommendation

T. A. Garrity: All the Mathematics You Missed: But Need to Know for Graduate School, Cambridge University Press, 2002

Mathematics you might need to know for graduate school

www.mathematik.uni-wuerzburg.de/~dobro/aanal/anganal.html

Some well known facts

www.math.nagoya-u.ac.jp/~richard/teaching/f2017/Folland_A_Guide.pdf

How to win a living goose and other problems in functional analysis

perenflo.com/math.html

Some proofs not from the book (by S. Tabachnikov)

www.math.psu.edu/tabachni/prints/NotBook4.pdf

Wer ist Alexander Grothendieck? (W. Scharlau)

www.scharlau-online.de/DOKS/Wer%20ist%20AG.pdf

There is hope: Yitang Zhang

d2r55xnwy6nx47.cloudfront.net/uploads/2017/06/yitang-zhangs-santa-barbara-beach-walk-20170615.pdf

Nikolas Bourbaki and Johnny

Who is Bourbaki?

math.sun.ac.za/wp-content/uploads/2013/03/Bourbaki.pdf and www.tau.ac.il/~corry/publications/articles/pdf/bourbaki-structures-synthese.pdf for another approach

A life with Bourbaki

www.kyotoprize.org/wp/wp-content/uploads/2016/02/10kB_lct_EN.pdf

Johnny's problem (Why Johnny can't add):

www.marco-learningsystems.com/pages/kline/johnny.html

www.spiegel.de/spiegel/print/d-43019236.html

www.spiegel.de/spiegel/print/d-41784469.html

Some more of Johnny's problems:

onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/ddrr.45

www.personal.psu.edu/cpc16/misc/Why_Johnny_Can_t_Add_Without_a_Calculator.pdf

Die Vergangenheit der Neuen Mathematik:

homepage.univie.ac.at/bernhard.kroen/Bogensperger.pdf

The end of Moore's law

rodneybrooks.com/the-end-of-moores-law/

Future of Mathematics

Henri Poincaré

cfcul.fc.ul.pt/pdfs%20e%20powerpoints/poincare-futmatcompleto.pdf

Felix Browder

pdfs.semanticscholar.org/cb03/e7b8f12a3a877af132a52a4b1cee19379113.pdf

Future of the FFT, 20 years ago

www.cs.tau.ac.il/~stoledo/Pubs/pp97-fft.pdf

In praise of lectures (T. W. Körner)

www.dpmms.cam.ac.uk/~twk/Lecture.pdf

Über Hunde und Katzen

archiv.omnisophie.com/day_116.html

Chaser outperforms Rico
webs.wofford.edu/reidak/Pubs/Pilley%20and%20Reid%202011.pdf

How to do mathematical research?

www.math.hawaii.edu/~lee/how-to.html

Formula of success (N. N. Salashchenko, IPM RAS)

ipmras.ru/en/about/persons/salashcenko

On mismeasurement of science (P. A. Lawrence)

www.dcscience.net/lawrence-current-biology-2007.pdf

On peanuts and math

www.gocomics.com/peanuts/1965/10/09

www.gocomics.com/peanuts/1965/10/05

John von Neumann: Zur Hilbertschen Beweistheorie

gdz.sub.uni-goettingen.de/id/PPN266833020_0026

Dieter Kölzow

www.nat.fau.de/2019/01/10/in-gedenken-an-professor-dietrich-koelzow/

Konrad Zuse und die ETH Zürich

ftp://ftp.inf.ethz.ch/doc/tech-reports/7xx/705.pdf

Entrance Examinations to the Mekh-mat

www.3038.org/press/shen.pdf

The Martian's Vision of the future (George Marx)

mek.oszk.hu/03200/03286/html/tudos1/martians.html

Über Professoren, Säugetiere und Peer Reviews

"Dazu kommt, dass Professoren, wie viele andere Säugetiere und sogar die meisten sozialorganisierten Organismen sich durch ein ausgesprochenes Territorialdenken auszeichnen." Heinrich Ursprung, Präsident ETH Zürich (1973 - 1987)

tph.tuwien.ac.at/~svozil/publ/2003-salzburg.pdf

On teaching mathematics (V. i. Arnold)

www.uni-muenster.de/Physik.TP/~munsteg/arnold.html

A mathematical trivium (V. I. Arnold)

spaces.ac.cn/usr/uploads/2013/09/32866233.pdf

Will mathematics survive? (V. I. Arnold)

www.math.ucla.edu/~pak/hidden/papers/Arnold-survive.pdf

Problems for children from 5 and 15 (V. I. Arnold)

imaginary.org/sites/default/files/taskbook_arnold_en_0.pdf

An Interview with Vladimir Arnold

Utilius scandalum nasci permittur quam veritas relinquatur. (One should speak the truth even at risk of provoking a scandal.) - Pope Gregory IX

www.ams.org/notices/199704/arnold.pdf

Mathematics and politics in the Soviet Union from 1928 to 1953 (G. G. Lorentz)

www.emis.de/classics/HAT/fpapers/lorentzussr.pdf

Aus internem Anlass: Milan Machovec

www.e-periodica.ch/cntmng

offengelegte Patentanmeldungen und erteilte Patente

[1] A. Högele, J. Müller, T. Gruner, B. Bittner, N. Wabra, Verfahren zur Montage und Justage eines Projektionsobjektives für die Lithographie sowie Projektionsobjektiv, DE102005019726 (2006)

 

[2] W. Ulrich, Th. Okon, N. Wabra, B. Bittner, V. Gräschus, Method for correcting a lithography projection objective, and such a projection objective, EP1746463, JP5047544, US8174676, US8659744 (2007)

 

[3] O. Conradi, B. Bittner, S. Bleidistel, M. Hauf, W. Hummel, A. Kazi, B. Trossbach, J. Weber, H. Holderer, P. Tayebati, Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, JP5069232, US7830611, WO07017089 (2007)

 

[4] O. Rogalsky, B. Bittner, Th. Petasch. J. Häußler, Lithographic projection objective, CN101479667, EP2035897, JP5156740, KR101235492, TW200823603, US2009153829, WO08003442, US8605253, US2014078482, TWI439815 (2008)

 

[5] H.-J. Rostalski, B. Bittner, Catadioptric optical system and catadioptric optical element, EP1936421 (2008)

 

[6] B. Bittner, H. Walter, M. Rösch, Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility, CN102165371, DE102008042356, EP2329321, JP4988066, KR20110047250, TW201019041, US8203696, WO10034674, KR20140002078, US2014176924, KR101426123 (2010)

 

[7] B. Bittner, Projection exposure apparatus with optimized adjustment capability, DE102010041528, US2013250266, WO12041589 (2012)

 

[8] O. Rogalsky, S. Schneider, B. Bittner, J. Kugler, B. Gellrich, R. Freimann, Imaging optical system for microlithography, DE102011080437, TW201232028, WO12041459, CN103140803, US2013188246 (2012)

 

[9] S. Hembacher, B. Bittner, Variabler Anschlag für ein optisches Element sowie Positioniersystem und Verfahren hierzu, DE102011087389 (2012)

 

[10] B. Bittner, S. Schneider, M. von Hodenberg, Method of operating a microlithographic projection exposure apparatus, WO12123000 (2012)

 

[11] R. Freimann, B. Bittner, Projection arrangement, DE102011077784, US2014104587, WO12175501, CN103620500, KR20140041742 (2012)

 

[12] B. Bittner, N. Wabra, Microlithographic exposure apparatus, DE102011113521, JP2013065857, US2013070221 (2013)

 

[13] J. Zellner, B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, R. Schneider, A. Schob, G. Rudolph, A. Gratzke, A. Moffat, Projection objective of a mcrolithographic projection exposure apparatus, WO13044936, TW201329645, US2014185024, KR20140089356 (2013)

 

[14] M. Weiß, N. Kerwien, M. Weiser, B. Bittner, N. Wabra, Chr. Schlichenmaier, W. Clauss, Reflective optical element for the EUV wavelength range, method for producing and correcting such an element, projection lens for microlithography comprising such an element, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection lens, DE102011084117, WO13050199, CN103858055, KR20140084012, EP2764407, US020140307308 (2013)

 

[15] R. Schneider, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, B. Bittner, Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, DE102011086513 (2013)

 

[16] A. Wolf, B. Bittner, A. Göhnermeier, S. Schneider, Korrekturvorrichtung zur Beeinflussung einer Intensität eines Beleuchtungslicht-Bündels, DE102011086944, WO13075923 (2013)

 

[17] S. Schneider, N. Wabra, M. von Hodenberg, B. Bittner, R. Schneider, Beleuchtungs- und Verlagerungsvorrichtung für eine Projektionsbelichtungsanlage, DE102011086949, WO13075930, US20140239192 (2013)

 

[18] S. Schneider, N. Wabra, M. von Hodenberg, B. Bittner, R. Schneider, Projection lens of a microlithographic projection exposure apparatus, DE102011086665, WO13072388 (2013)

 

[19] H. Walter, B. Bittner, Method of operating a microlithographic projection exposure apparatus and projection objective of such an apparatus, WO13113336 (2013)

 

[20] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, R. Iliew, T. Schicketanz, T. Gruner, Projektionsobjektiv für EUV-Mikrolithographie, Folienelement und Verfahren zur Herstellung eines Projektionsobjektivs mit Folienelement, DE102012202057, WO13117343, TW201337324 (2013)

 

[21] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, W. Pauls, R. Iliew, Verfahren zum Betreiben eines Projektionsbelichtungssystems für die EUV-Lithographie und

Projektionsbelichtungssystem, DE102012216494 (2013)

 

[22] B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Manipulator, DE102012205096, TW201339738, US2013258302, KR20130111364, KR101421891, CN103365113, JP2013229602 (2013)

 

[23] A. Wolf, B. Bittner, T. Gruner, J. Hartjes, Überwachungseinrichtung für eine Projektonsbelichtungsanlage und Verfahren zu deren Betrieb, DE102012215698 (2013)

 

[24] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, W. Pauls, H. Schmidt, Gekühltes optisches Element für eine Projektionsbelichtungsanlage, DE102012219543 (2013)

 

[25] N. Wabra, B. Bittner, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, R. Iliew, Lithographieanlage mit Kühlvorrichtung, DE102013201805 (2013)

 

[26] C. Wald, N. Wabra. B. Bittner, S. Schneider, H. Wagner, R. Schneider, W. Pauls, H. Schmidt, Verfahren zur Herstellung einer elektromagnetische Wellen beugenden Struktur für eine Wellenfrontquelle, DE102013202372 (2013)

 

[27] B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, R. Schneider, S. Schneider, Microlithographic projection exposure apparatus and method for varying an optical wavefront in a catoptric lens of such an apparatus, WO14008994, DE102012212194, TW201421167 (2014)

 

[28] B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, R. Iliew, Method for operationg a microlithographic projection exposure apparatus, DE102012212757, WO14012660 (2014)

 

[29] B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, R. Schneider, R. Mack, System correction from long timescales, DE102012212758, WO14012643 (2014)

 

[30] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, R. Iliew, W. Pauls, Mirror arrangement for an EUV projection exposure apparatus, method for operating the same, and EUV projection exposure apparatus, DE102012212898, WO14016168, TW201416723 (2014)

 

[31] S. Figueredo, E. Loopstra, S. Schneider, M. Hauf, B. Bittner, N. Wabra, R. Schneider, H. Schmidt, Cooling for at least one system component of an optical system for EUV applications, and such a system component and such an optical system, DE102013111801 (2014)

 

[32] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, W. Pauls, H. Schmidt, F. Ahles, S. Fritzsche, Projektionsanordnung, DE102013204316 (2014)

 

[33] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, W. Pauls, H. Schmidt, Entfernbare Beschichtung eines optischen Elements, DE102013212467 (2014)

 

[34] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, R. Iliew, W. Pauls, H. Schmidt, Projection exposure system for EUV lithography and method for operating the projection exposure system, DE102012219545, WO14064224 (2014)

 

[35] B. Bittner, C. Wald, H. Wagner, N. Wabra, S. Fritzsche, S. Schneider, R. Schneider, H. Schmidt, W. Pauls, F. Ahles, Verfahren zur Herstellung eines Rohlings, DE102013221378 (2014)

 

[36] N. Wabra, B. Bittner, M. von Hodenberg, H. Enkisch, S. Müllender, O. Conradi, Reflective optical element for EUV lithography and method of manufacturing a reflective optical element, DE102012222466, WO14086905 (2014)

 

[37] N. Wabra, B. Bittner, M. von Hodenberg, Reflektives optisches Element für die EUV-Lithographie, DE102012222451 (2014)

 

[38] C. Wald, W. Pauls, B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner., H. Schmidt, A. Ponomarev, F. Ahles, Diffraktive und refraktive optische Elemente für EUV – Optiksysteme, DE102014208039 (2014)

 

[39] A. Wolf, T. Gruner, B. Bittner, N. Wabra, Projection exposure apparatus with a highly flexible manipulator, WO2014139990 (2014)

 

[40] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, M. von Hodenberg, H. Wagner, R. Iliew, Microlithographic apparatus, WO2014139543 (2014)