Professors and lecturers
Prof. Dr. Boris Bittner
97421 Schweinfurt
Head of Harmonic Analysis and Inverse Problems, Image Processing and Machine Learning Lab
News
Ausgezeichnete Abschlussarbeiten
Daniel Meth, Ein Interpolations-Algorithmus fur Walzlagerpro file (Hans-Wilhelm Renkhoff-Stiftung, 2017)
Monika Warmuth, Fourieranalysis in der Dialyse – Entwicklung eines Feedbacksystems zur Steuerung einer peristaltischen Pumpe (Hans-Wilhelm Renkhoff Stiftung, 2018)
Lotte Adler, Algorithmenbasierte Erhöhung des Flussgrades und Entwicklung eines flussorientierten Layout-Konzepts in einem Luftfrachtunternehmen am Beispiel der time:matters GmbH (Hans-Wilhelm Renkhoff Stiftung, 2019)
Nico Nees, Modellbildung fur Vereisungen an Windenergieanlagen auf Grundlage von meteorologischen Daten (Hans-Wilhelm Renkhoff Stiftung, 2019)
Andreas Handel, Maschinelles Lernen und Signalanalyse - Bewertung des Akustikverhaltens von Wälzlagern (Schaeffler FAG Stiftung, 2019)
111. Geburtstag von Willi Rinow (28. Februar 2018)
Recommendation
T. A. Garrity: All the Mathematics You Missed: But Need to Know for Graduate School, Cambridge University Press, 2002
Mathematics you might need to know for graduate school
www.mathematik.uni-wuerzburg.de/~dobro/aanal/anganal.html
Some well known facts
www.math.nagoya-u.ac.jp/~richard/teaching/f2017/Folland_A_Guide.pdf
How to win a living goose and other problems in functional analysis
Some proofs not from the book (by S. Tabachnikov)
www.math.psu.edu/tabachni/prints/NotBook4.pdf
Wer ist Alexander Grothendieck? (W. Scharlau)
www.scharlau-online.de/DOKS/Wer%20ist%20AG.pdf
There is hope: Yitang Zhang
d2r55xnwy6nx47.cloudfront.net/uploads/2017/06/yitang-zhangs-santa-barbara-beach-walk-20170615.pdf
Nikolas Bourbaki and Johnny
Who is Bourbaki?
math.sun.ac.za/wp-content/uploads/2013/03/Bourbaki.pdf and www.tau.ac.il/~corry/publications/articles/pdf/bourbaki-structures-synthese.pdf for another approach
A life with Bourbaki
www.kyotoprize.org/wp/wp-content/uploads/2016/02/10kB_lct_EN.pdf
Johnny's problem (Why Johnny can't add):
www.marco-learningsystems.com/pages/kline/johnny.html
www.spiegel.de/spiegel/print/d-43019236.html
www.spiegel.de/spiegel/print/d-41784469.html
Some more of Johnny's problems:
onlinelibrary.wiley.com/doi/pdf/10.1002/ddrr.45
www.personal.psu.edu/cpc16/misc/Why_Johnny_Can_t_Add_Without_a_Calculator.pdf
Die Vergangenheit der Neuen Mathematik:
homepage.univie.ac.at/bernhard.kroen/Bogensperger.pdf
The end of Moore's law
rodneybrooks.com/the-end-of-moores-law/
Future of Mathematics
Henri Poincaré
cfcul.fc.ul.pt/pdfs%20e%20powerpoints/poincare-futmatcompleto.pdf
Felix Browder
pdfs.semanticscholar.org/cb03/e7b8f12a3a877af132a52a4b1cee19379113.pdf
Future of the FFT, 20 years ago
www.cs.tau.ac.il/~stoledo/Pubs/pp97-fft.pdf
In praise of lectures (T. W. Körner)
www.dpmms.cam.ac.uk/~twk/Lecture.pdf
Über Hunde und Katzen
archiv.omnisophie.com/day_116.html
Chaser outperforms Ricowebs.wofford.edu/reidak/Pubs/Pilley%20and%20Reid%202011.pdf
How to do mathematical research?
www.math.hawaii.edu/~lee/how-to.html
Formula of success (N. N. Salashchenko, IPM RAS)
ipmras.ru/en/about/persons/salashcenko
On mismeasurement of science (P. A. Lawrence)
www.dcscience.net/lawrence-current-biology-2007.pdf
On peanuts and math
www.gocomics.com/peanuts/1965/10/09
www.gocomics.com/peanuts/1965/10/05John von Neumann: Zur Hilbertschen Beweistheorie
gdz.sub.uni-goettingen.de/id/PPN266833020_0026
Dieter Kölzow
www.nat.fau.de/2019/01/10/in-gedenken-an-professor-dietrich-koelzow/
Konrad Zuse und die ETH Zürich
ftp://ftp.inf.ethz.ch/doc/tech-reports/7xx/705.pdf
Entrance Examinations to the Mekh-mat
The Martian's Vision of the future (George Marx)
mek.oszk.hu/03200/03286/html/tudos1/martians.html
Über Professoren, Säugetiere und Peer Reviews
"Dazu kommt, dass Professoren, wie viele andere Säugetiere und sogar die meisten sozialorganisierten Organismen sich durch ein ausgesprochenes Territorialdenken auszeichnen." Heinrich Ursprung, Präsident ETH Zürich (1973 - 1987)
tph.tuwien.ac.at/~svozil/publ/2003-salzburg.pdf
On teaching mathematics (V. i. Arnold)
www.uni-muenster.de/Physik.TP/~munsteg/arnold.html
A mathematical trivium (V. I. Arnold)
spaces.ac.cn/usr/uploads/2013/09/32866233.pdf
Will mathematics survive? (V. I. Arnold)
www.math.ucla.edu/~pak/hidden/papers/Arnold-survive.pdf
Problems for children from 5 and 15 (V. I. Arnold)
imaginary.org/sites/default/files/taskbook_arnold_en_0.pdf
An Interview with Vladimir Arnold
Utilius scandalum nasci permittur quam veritas relinquatur. (One should speak the truth even at risk of provoking a scandal.) - Pope Gregory IX
www.ams.org/notices/199704/arnold.pdf
Mathematics and politics in the Soviet Union from 1928 to 1953 (G. G. Lorentz)
www.emis.de/classics/HAT/fpapers/lorentzussr.pdf
Aus internem Anlass: Milan Machovec
Publications
offengelegte Patentanmeldungen und erteilte Patente
[1] A. Högele, J. Müller, T. Gruner, B. Bittner, N. Wabra, Verfahren zur Montage und Justage eines Projektionsobjektives für die Lithographie sowie Projektionsobjektiv, DE102005019726 (2006)
[2] W. Ulrich, Th. Okon, N. Wabra, B. Bittner, V. Gräschus, Method for correcting a lithography projection objective, and such a projection objective, EP1746463, JP5047544, US8174676, US8659744 (2007)
[3] O. Conradi, B. Bittner, S. Bleidistel, M. Hauf, W. Hummel, A. Kazi, B. Trossbach, J. Weber, H. Holderer, P. Tayebati, Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, JP5069232, US7830611, WO07017089 (2007)
[4] O. Rogalsky, B. Bittner, Th. Petasch. J. Häußler, Lithographic projection objective, CN101479667, EP2035897, JP5156740, KR101235492, TW200823603, US2009153829, WO08003442, US8605253, US2014078482, TWI439815 (2008)
[5] H.-J. Rostalski, B. Bittner, Catadioptric optical system and catadioptric optical element, EP1936421 (2008)
[6] B. Bittner, H. Walter, M. Rösch, Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility, CN102165371, DE102008042356, EP2329321, JP4988066, KR20110047250, TW201019041, US8203696, WO10034674, KR20140002078, US2014176924, KR101426123 (2010)
[7] B. Bittner, Projection exposure apparatus with optimized adjustment capability, DE102010041528, US2013250266, WO12041589 (2012)
[8] O. Rogalsky, S. Schneider, B. Bittner, J. Kugler, B. Gellrich, R. Freimann, Imaging optical system for microlithography, DE102011080437, TW201232028, WO12041459, CN103140803, US2013188246 (2012)
[9] S. Hembacher, B. Bittner, Variabler Anschlag für ein optisches Element sowie Positioniersystem und Verfahren hierzu, DE102011087389 (2012)
[10] B. Bittner, S. Schneider, M. von Hodenberg, Method of operating a microlithographic projection exposure apparatus, WO12123000 (2012)
[11] R. Freimann, B. Bittner, Projection arrangement, DE102011077784, US2014104587, WO12175501, CN103620500, KR20140041742 (2012)
[12] B. Bittner, N. Wabra, Microlithographic exposure apparatus, DE102011113521, JP2013065857, US2013070221 (2013)
[13] J. Zellner, B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, R. Schneider, A. Schob, G. Rudolph, A. Gratzke, A. Moffat, Projection objective of a mcrolithographic projection exposure apparatus, WO13044936, TW201329645, US2014185024, KR20140089356 (2013)
[14] M. Weiß, N. Kerwien, M. Weiser, B. Bittner, N. Wabra, Chr. Schlichenmaier, W. Clauss, Reflective optical element for the EUV wavelength range, method for producing and correcting such an element, projection lens for microlithography comprising such an element, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection lens, DE102011084117, WO13050199, CN103858055, KR20140084012, EP2764407, US020140307308 (2013)
[15] R. Schneider, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, B. Bittner, Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, DE102011086513 (2013)
[16] A. Wolf, B. Bittner, A. Göhnermeier, S. Schneider, Korrekturvorrichtung zur Beeinflussung einer Intensität eines Beleuchtungslicht-Bündels, DE102011086944, WO13075923 (2013)
[17] S. Schneider, N. Wabra, M. von Hodenberg, B. Bittner, R. Schneider, Beleuchtungs- und Verlagerungsvorrichtung für eine Projektionsbelichtungsanlage, DE102011086949, WO13075930, US20140239192 (2013)
[18] S. Schneider, N. Wabra, M. von Hodenberg, B. Bittner, R. Schneider, Projection lens of a microlithographic projection exposure apparatus, DE102011086665, WO13072388 (2013)
[19] H. Walter, B. Bittner, Method of operating a microlithographic projection exposure apparatus and projection objective of such an apparatus, WO13113336 (2013)
[20] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, R. Iliew, T. Schicketanz, T. Gruner, Projektionsobjektiv für EUV-Mikrolithographie, Folienelement und Verfahren zur Herstellung eines Projektionsobjektivs mit Folienelement, DE102012202057, WO13117343, TW201337324 (2013)
[21] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, W. Pauls, R. Iliew, Verfahren zum Betreiben eines Projektionsbelichtungssystems für die EUV-Lithographie und
Projektionsbelichtungssystem, DE102012216494 (2013)
[22] B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Manipulator, DE102012205096, TW201339738, US2013258302, KR20130111364, KR101421891, CN103365113, JP2013229602 (2013)
[23] A. Wolf, B. Bittner, T. Gruner, J. Hartjes, Überwachungseinrichtung für eine Projektonsbelichtungsanlage und Verfahren zu deren Betrieb, DE102012215698 (2013)
[24] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, W. Pauls, H. Schmidt, Gekühltes optisches Element für eine Projektionsbelichtungsanlage, DE102012219543 (2013)
[25] N. Wabra, B. Bittner, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, R. Iliew, Lithographieanlage mit Kühlvorrichtung, DE102013201805 (2013)
[26] C. Wald, N. Wabra. B. Bittner, S. Schneider, H. Wagner, R. Schneider, W. Pauls, H. Schmidt, Verfahren zur Herstellung einer elektromagnetische Wellen beugenden Struktur für eine Wellenfrontquelle, DE102013202372 (2013)
[27] B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, R. Schneider, S. Schneider, Microlithographic projection exposure apparatus and method for varying an optical wavefront in a catoptric lens of such an apparatus, WO14008994, DE102012212194, TW201421167 (2014)
[28] B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, R. Iliew, Method for operationg a microlithographic projection exposure apparatus, DE102012212757, WO14012660 (2014)
[29] B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, R. Schneider, R. Mack, System correction from long timescales, DE102012212758, WO14012643 (2014)
[30] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, R. Iliew, W. Pauls, Mirror arrangement for an EUV projection exposure apparatus, method for operating the same, and EUV projection exposure apparatus, DE102012212898, WO14016168, TW201416723 (2014)
[31] S. Figueredo, E. Loopstra, S. Schneider, M. Hauf, B. Bittner, N. Wabra, R. Schneider, H. Schmidt, Cooling for at least one system component of an optical system for EUV applications, and such a system component and such an optical system, DE102013111801 (2014)
[32] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, W. Pauls, H. Schmidt, F. Ahles, S. Fritzsche, Projektionsanordnung, DE102013204316 (2014)
[33] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, W. Pauls, H. Schmidt, Entfernbare Beschichtung eines optischen Elements, DE102013212467 (2014)
[34] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, R. Iliew, W. Pauls, H. Schmidt, Projection exposure system for EUV lithography and method for operating the projection exposure system, DE102012219545, WO14064224 (2014)
[35] B. Bittner, C. Wald, H. Wagner, N. Wabra, S. Fritzsche, S. Schneider, R. Schneider, H. Schmidt, W. Pauls, F. Ahles, Verfahren zur Herstellung eines Rohlings, DE102013221378 (2014)
[36] N. Wabra, B. Bittner, M. von Hodenberg, H. Enkisch, S. Müllender, O. Conradi, Reflective optical element for EUV lithography and method of manufacturing a reflective optical element, DE102012222466, WO14086905 (2014)
[37] N. Wabra, B. Bittner, M. von Hodenberg, Reflektives optisches Element für die EUV-Lithographie, DE102012222451 (2014)
[38] C. Wald, W. Pauls, B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner., H. Schmidt, A. Ponomarev, F. Ahles, Diffraktive und refraktive optische Elemente für EUV – Optiksysteme, DE102014208039 (2014)
[39] A. Wolf, T. Gruner, B. Bittner, N. Wabra, Projection exposure apparatus with a highly flexible manipulator, WO2014139990 (2014)
[40] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, M. von Hodenberg, H. Wagner, R. Iliew, Microlithographic apparatus, WO2014139543 (2014)